技术展示

喷雾式光气化反应制备异氰酸酯技术

2022-12-29 13:33:28 110

一、 光气化反应制备异氰酸酯技术概述

       目前大多和生产企技 术水歇式间体的 小品异氰连续拌釜应、射强或塔反应目前先进光 气化应技(如可以出,气相技术现以,光应的键 在于速率反应温度个最衡点到提高反降 低系积效势是-高反应温-低停 留时间:如最早的间歇式反应,冷反映需要 10~15hr,其反应温度-10~5℃;连续搅拌釜式 则停10~30min温度 30~60而喷停留时间1s, 反应温度 80~120℃。此时,对于传统的反应设备来说,液相混合已经达到了其极限混合, 考虑远高关企化技在喷射 强化到了时间步降到几十个毫秒,而反应温度则提升到 280~380℃甚至更高。

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      目前气相光气化反应技术作为最先进的技术,已经在 TDIHDIIPDI 产品中采用并 取得效果但是其仍浪费大 量预能量大量而目看还没 有对或利是胺类反反应过热过程中会发生副反应,另外反应过程中也会存在局部高温问题,从而引发副反应发生; 三是骤冷术难快速会 降低收率相光很大空间研究也都以上 三个是只术基线个问难从本上解决。

       为了气化了燃提出了 喷雾即液之前嘴在器内雾 化形滴在环境化后的胺应放加热 环反应热汽而能量得大降低气的原 料胺能耗重要可以有效后续骤冷显著 降低,从本质上改善并解决了气相光气法的三个缺点。

二、 关键技术核心

      喷雾出的如下图 2 目涉及的技术有三个:

 

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(1)   均匀微小液滴的形成与调控

       课题组对不同喷雾设备结构型式与尺寸及操作条件对喷雾液滴的粒径大小与分布的影 响进和实将液范围并获较均匀的分布。其结论已经在 PC 气相喷雾造粒中试获得验证,并授权了发明专利

(2)与喷雾液滴粒径适配的反应器结构及操作条件

       液滴应所面的要有适配反 应器了系不同粒 径大应时变化分内申请 了国家发明专利

(3)反应全系统的集成与设计

       综合进程等因反应全系统进行综合优化设计。此部分已经完成了初步方案,可以进行中试验证。

三、 技术优势

(1) 可用于不适宜气相光气化技术的异氰酸酯产品

       由于反应应物的胺困难难再反应前汽化并过热,如 MDA。但是此技术可以避免此限制。

(2)   能耗降低

       由于化胺光气反应器反应 物的应后相应反应程,能耗相对气相法降低~40%,反应温度降低 80~100

(3)   反应收率提高

      一是化与反应度低于气光 气化温度也减少了反应两方面考利于反应收率的提高。

(4)   易于改造实施,投资较少,不影响正常生产

       针对装置种技行少量改而原有的后续处理及部分反应釜仍可以使用,投资费用低,改造内容少,成果见效快。





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